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半導体産業の基礎知識と最先端の洞察を探求

ムーアの法則は、チップ上のトランジスタ数が約2年ごとに倍増し、同時にコストが半減することを予測しています。この法則は半導体産業の数十年にわたる発展と革新を推進してきました。

ウェーハプロセスの「ナノメートル」値は、トランジスタの重要部品のサイズを表します。数字が小さいほど技術が先進的で、同じ面積により多くのトランジスタを配置できます。

最初のゲルマニウムからシリコン、ガリウムヒ素、そして炭化ケイ素と窒化ガリウムまで、半導体材料の進化は電子製品性能の飛躍的向上を実現しました。

張

半導体研究開発ディレクター

"量子コンピューティングは今後10年間で半導体産業の発展方向を根本的に変革し、従来のトランジスタアーキテクチャに重大な挑戦をもたらすでしょう。"

林

材料科学専門家

"グラフェンなどの新型二次元材料は半導体応用において驚異的な可能性を示し、既存のシリコンベース半導体の物理的限界を突破することが期待されます。"

王

市場動向研究員

"半導体装置の自主革新は未来の産業競争の中核となり、キー装置技術を持つ企業が市場で主導的地位を占めるでしょう。"

ベル研究所で最初のトランジスタ誕生

ジョン・バーディーン、ウォルター・ブラッテン、ウィリアム・ショックレーによって発明され、この突破が現代電子産業の基礎を築きました。

ジャック・キルビーとロバート・ノイスがそれぞれ独立して集積回路を発明し、複数の電子部品を単一チップに統合しました。

集積回路の発明

ムーアの法則提唱

インテル共同創設者ゴードン・ムーアがチップ上のトランジスタ数が約2年ごとに倍増することを予測し、この予測が半導体産業の数十年の発展を推進しました。

ウェーハプロセス技術の突破により、半導体産業はナノメートル時代に入り、チップ性能が大幅に向上し、消費電力が劇的に削減されました。

半導体プロセスがナノメートル時代に突入

ポストムーア時代と新型計算パラダイム

従来の微細化路線が物理的限界に近づく中、産業は3D集積回路、新材料、量子コンピューティングなどの革新的方向を探求しています。